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拉普拉斯(无锡)半导体申请太阳能电池相关专利, 实现对太阳能电池的膜层局部去除效果
发布日期:2025-04-12 05:20 点击次数:118
金融界2025年3月27日消息,国家知识产权局信息显示,拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司申请一项名为“太阳能电池的激光加工方法和制备方法、激光装置”的专利,公开号CN119681444A,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,一种太阳能电池的激光加工方法,包括:提供硅基底,硅基底的表面设置有待加工膜层,待加工膜层包括硅玻璃层和介电层中的至少一个;采用激光照射待加工膜层的局部区域,以去除待加工膜层的局部区域,激光的光斑的形状为条形,光斑的长宽比为2:1及以上,长度≥200μm,激光为脉冲激光,脉宽为100fs~10ps,单脉冲能量≥100μJ,波长为300~1200nm。本申请通过一定长宽比的条形的激光光斑配置,实现对太阳能电池的膜层局部去除的效果,相比于现有的大尺寸的方形光斑的激光开膜工艺,具有单脉冲能量要求低、工艺均匀性好、稳定性高、产能提升空间大的优点。本申请还提供太阳能电池的制备方法和一种激光装置。
天眼查资料显示,拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司,成立于2019年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币,实缴资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析,拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司参与招投标项目9次,专利信息283条,此外企业还拥有行政许可53个。
本文源自:金融界
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